共 22 条查询结果
| 商品编码 | 商品名称 | 计量单位 | 出口退税率(%) | 监管条件 | 检验检疫 | 更多信息 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 3208 1000.20 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3208100020 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3208 2010.30 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3208201030 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3208 2020.20 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3208202020 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3208 9090.21 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | L,M | 详情 |
| 3208909021 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | L,M | 详情 |
| 3208 9090.22 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的聚酰亚胺原液和聚酰亚胺树脂溶液：挥发性有机物含量＞700g/L，粘度（25℃）为2500-3000mPa·s | 千克 | - | A | L,M | 详情 |
| 3208909022 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的聚酰亚胺原液和聚酰亚胺树脂溶液：挥发性有机物含量＞700g/L，粘度（25℃）为2500-3000mPa·s | 千克 | 0.00 | A | L,M | 详情 |
| 3209 1000.20 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3209100020 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3209 9010.20 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3209901020 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3209 9020.20 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3209902020 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 13.00 | A | M | 详情 |
| 3209 9090.21 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3209909021 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
| 3209 9090.22 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的旋涂玻璃：挥发性有机物含量＞700g/L，密度为0.8-0.9g/cm3 | 千克 | - | A | M | 详情 |
| 3209909022 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的旋涂玻璃：挥发性有机物含量＞700g/L，密度为0.8-0.9g/cm3 | 千克 | 0.00 | A | M | 详情 |
